磁控溅射卷绕镀膜设备的优点 时间:2023-09-25 栏目:行业新闻 浏览:515 磁控溅射卷绕镀膜设备,磁控溅射具有以下两大优点:提高等离子密度,从而提高溅射速度;减少轰击零件的电子数目,因而降低了基材因电子的升温。 因此,该技术在薄膜技术中占有主导地位。磁控溅射阴极的大缺点:使用平面靶材,靶材在跑道区形成溅射沟道,这沟道一旦贯穿靶材,则整块靶材即报废,因而靶材的利用率只有20-30%。 不过,目前为了避免这个缺点,很多靶材采用圆柱靶材形式,靶材利用率得以大幅度提高。 关键词: <上一篇:多弧离子镀膜机的应用范围 >下一篇:没有了! 相关推荐 >磁控溅射卷绕镀膜设备的优点 >多弧离子镀膜机的应用范围 >磁控溅射镀膜技术在陶瓷表面装饰中采用的工艺流程